用鹽溶劑處理溶體最主要的是減少氧化物和非金屬內(nèi)含物的含量。溶劑或溶劑的混合物以片狀或顆粒的形式浸入到溶體中并慢慢溶解。細(xì)?;蚍勰⒃谌垠w的表面并溶解。他們可能通過葉輪機(jī)械地?cái)嚢柽M(jìn)熔體中或手動(dòng)攪拌進(jìn)去。以類似的方式也可以引進(jìn)顆粒、低共熔硅的調(diào)節(jié)劑以及最初的成核的硅到溶體中。選擇的熔劑的組成是為了適合要達(dá)到的目的,無論需要清理或是改變微觀結(jié)構(gòu);在任何情況下,這種混合物要在大概750℃左右的溫度熔化或溶解已達(dá)到最好的效果。鹽被用作與熔體精細(xì)混合,鹽也可以被用作覆蓋溶劑。不同的覆蓋溶劑用作不同的目的;干燥氧化的熔渣以便簡單的除掉;提供降低氧化作用和氫氣獲得量的阻礙;減少氫元素的燒化,如鈉,鎂;或者通過緩慢釋放來維持組分,如鈉。釋放鈉的元素在AI-Mg合金中不被使用,因?yàn)殁c對性質(zhì)有害,嘗試用氯化鎂代替。我們必須清楚,這些溶劑中含有結(jié)晶水,并將吸收與空氣中的濕氣,因此他們要在干燥的條件下儲藏否則要在使用以前用250℃的溫度預(yù)加熱。含有氯化物的溶劑具有侵襲爐子襯里的缺點(diǎn)。它們同樣也腐蝕坩堝材料,腐蝕碳化硅的程度要比黏土石墨的程度低。
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