鍍鋁膠帶山東億和廠家直銷 鍍鋁膠帶真空蒸鍍原理說明 將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)的放卷站上，將薄膜穿過冷卻輥（蒸鍍輥）卷繞在收卷站上，用真空泵抽真空，使蒸鍍室中的真空度達(dá)到4×10－4mba以上，加熱蒸發(fā)舟使高純度的鋁絲在1300℃～1400℃的溫度下融化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。啟動薄膜卷繞系統(tǒng)，當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。真空鍍鋁示意圖見圖1。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度以及蒸鍍室內(nèi)的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500 ?。 鍍膜基材 由于真空蒸鍍工藝的特殊性，它對被鍍薄膜基材有以下幾點(diǎn)要求： 1、耐熱性好，基材必須能耐受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物的冷凝潛熱。 2、從薄膜基材上產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少；對吸濕性大的基材，在蒸鍍前要進(jìn)行干燥處理。 3、基材應(yīng)具有一定的強(qiáng)度。