紫外C水消毒系統(tǒng)采用國際上九十年代末先進的現(xiàn)代紫外C消毒技術，以特殊的設計、工藝和材料制造的高教率、高強度、長壽命的紫外C消毒裝置為基礎，利用紫外c所具有的高效、廣譜殺滅能力來殺滅水中的細菌、病毒、寄生蟲、原生動物等，達到水凈化和消毒的目的。紫外C消毒技術具有高效、廣譜、廉價、長壽、無需添加任何物質(zhì)，不產(chǎn)生任何二次污染的特點，近幾年來以其獨特的優(yōu)越性在水處理領域倍受青睞，越來越廣泛地應用于改墻水、工農(nóng)業(yè)、食品、制藥行業(yè)生產(chǎn)用水、工業(yè)回用水及污水等的滅菌消毒處理。目前的污水處理廠的尾水消毒，相當數(shù)量采用了冠宇紫外消毒設備進行_消毒處理冠宇紫外線消毒系統(tǒng)工作時，需處理的水按設計要求的流速流過消毒模塊，特制高效紫外燈輻射出強紫外C光線(波長2537nm)。紫外C水消毒效果取決于水中細菌病毒可接受到的紫外劑量(紫外強度和照射時間乘積)。當紫外劑量達到一定時，紫外光能量使水中的細菌、病毒以及其它致病體的DNA內(nèi)部結(jié)構(gòu)遭到破壞，失去活性而殺滅，水質(zhì)得到消毒凈化。

2框架式明渠式紫外線消毒模塊系統(tǒng)

系統(tǒng)使用條件
水溫：550；使用環(huán)境溫度：一5C50周圍相對濕度：不大于93(溫度25
時)污水：進入消毒設備的污水要求ICM的透射率(T254)：40：其它要求滿足國家城鎮(zhèn)污
水處理廠污染物排放標準GB***中的二級標準。電壓：交流電380VIOV，50Hz

3框架式明渠式紫外線消毒模塊系統(tǒng)

基本組成
GYF開放式紫外C污水消毒系統(tǒng)采用模塊化設計，根據(jù)用戶實際需求、水處理量與不同
水質(zhì)特點等因素選用相應功率和數(shù)量的紫外消毒模塊，使用時將紫外消毒模塊置于消毒渠內(nèi)(見圖1)，外加各種控制模塊即可構(gòu)成消毒系統(tǒng)使用與維護方便。
NLQ開放式紫外C污水消毒系統(tǒng)由七個部分組成：紫外消毒模塊、空壓機與氣動裝置、安裝與遮光附件、鎮(zhèn)流器電箱、中央控制柜，水位控制裝置。
GYF紫外消毒模塊
GYF紫外消毒模塊以GYF開放式紫外C消毒排架(以下簡稱為排架，見圖2)為基本
單位。排架主要由不銹鋼框架、紫外燈、玻管、清洗架、氣缸、電纜及各種密封件緊同件等.

（3）空壓機與氣動裝置
設備配備有氣動控制柜、空壓機與水霧分離器在氣動控制柜內(nèi)裝有氣源處理元件和氣動控制元件，氣動裝置的氣管與排架相連，在設定時間對玻管進行自動或手動清洗e
(4)安裝與遮光附件
由安裝梁與遮光板組成，為不銹鋼304材料制成，可組裝成安裝框架，用于放置GYF紫外消毒模塊。
(5)鎮(zhèn)流器電箱
鎮(zhèn)流器電箱主要安裝有給燈管啟動供電的鎮(zhèn)流器，每個鎮(zhèn)流器對應一個燈管。每臺鎮(zhèn)流
器電箱還會配備一臺空調(diào)作散熱用。
(6)中央控制
中央控制柜主要由人機界面、PLC、回路控制元器件、數(shù)據(jù)采集通訊板、數(shù)據(jù)檢測板等構(gòu)成。整個系統(tǒng)控制以及數(shù)據(jù)采集顯示均集成在人機界面上。并可提供擴展模塊，實現(xiàn)遠程智能控制。
(7)水位控制裝置
水位控制裝置主要的功能是確保水位漫過排架第一支燈管，且漫過的水位不得超過第一支燈管6cm。確保最佳的消毒效果。目前采用的水位控制裝置主要包括固定式溢流堰、電動溢流堰門、拍門等。