Heatpulse 4100快速退火爐

原制造商：AG Associates
設(shè)備類(lèi)型：快速退火爐
AG Associates Heatpulse 4100系列快速退火系統(tǒng)具有成本低，適用面廣等優(yōu)點(diǎn)。是專(zhuān)門(mén)為半導(dǎo)體器件生產(chǎn)廠(chǎng)家快速退火工藝設(shè)計(jì)制造的退火系統(tǒng)，被廣泛應(yīng)用驗(yàn)證。該系統(tǒng)采用自動(dòng)傳片系統(tǒng)(Video)，適用于標(biāo)準(zhǔn)硅片、復(fù)合半導(dǎo)體材料和其他材料的晶片，晶片尺寸可從3英寸到6英寸。操作簡(jiǎn)便，自動(dòng)化程度高，已廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)。
Heatpulse 4100優(yōu)越的工藝控制： 單片，閉環(huán)溫度控制；
快速升溫與降溫控制；
工藝重復(fù)性高；
4組加熱燈可分別控制，提高溫場(chǎng)均勻性。Heatpulse 4100工藝用途： 離子注入后快速退火；
歐姆接觸快速合金；
硅化物合金退火；
氧化物生長(zhǎng)；
其它快速熱處理工藝。Heatpulse 4100 同管式高溫爐的比較： 一般管式高溫爐只能設(shè)定一個(gè)工藝條件，即一個(gè)溫度；
工藝周期長(zhǎng)，使用不太靈活；
須24小時(shí)加電恒溫，能耗較高；
快速退火爐可以設(shè)定多個(gè)工藝條件，即多種溫度；
快速退火爐工藝時(shí)間短，使用非常靈活；
快速退火爐能耗很低；
快速退火爐同一臺(tái)設(shè)備既可用作生產(chǎn)，也可用作科研，且任何科研工藝條件不會(huì)對(duì)生產(chǎn)工藝造成影響。Heatpulse 4100 同其他同類(lèi)快速退火爐的比較： 更廣泛被行業(yè)使用，市場(chǎng)保有量第一
更容易取得備件
成本低
更容易取得服務(wù)   

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經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：

Hitachi FE-SEM 5000電子掃描顯微 Lam Rainbow 4420 4520 4620 4720 AG Heatpulse自動(dòng)傳片視頻 Hitachi FE-SEM 4500電子掃描顯微 KLA-Tencor 量測(cè)設(shè)備 Plasmalab 80 Plus RIE刻蝕 MRC 903M 高真空磁控濺射設(shè)備 603-III 高真空磁控濺射設(shè)備 MXP Multiplex ICP HR Plasma-Therm Unaxis 790 PECVD DR Semitool Spray Solvent Tool (SST 濕法去膠機(jī) Semitool WST606MG Hitachi FE-SEM 4700電子掃描顯微 Hitachi FE-SEM 4800電子掃 Heatpulse 8108快速退火爐 Hitachi CD-SEM S-8820量測(cè)設(shè)備 Heatpulse 4100快速退火爐 Gasonics Aura 3010 等離子去膠

零件銷(xiāo)售：

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