磁控濺射鍍膜技術(shù) 用幾十電子伏或更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，這種濺出的，復(fù)雜的粒子散射過(guò)程稱(chēng)為濺射。濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來(lái)達(dá)到制取各種膜層的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。在與靶表面平行的方向上施加磁場(chǎng)，利用電場(chǎng)和磁場(chǎng)相互垂直的磁控管原理減少了電子對(duì)基底的轟擊，有效降低了基底溫度，使高速濺射成為可能。 深圳回收磁控鍍膜機(jī)，價(jià)格合理，上門(mén)回收